硅微透镜阵列的制备工艺
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shanghai jiao tong university

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国家科技部“十三五”高性能计算重点研发计划项目子课题(2016YFB0200205); 2018年度上海研发公共服务平台建设项目(18DZ2295400); 2021年上海交通大学决策咨询重点课题(No.JCZXSJA-04),2020年上海交通大学决策咨询课题(No. JCZXSJB2020-010)


Fabrication process for microlens array on Silicon
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    摘要:

    本文开发了一种和MEMS工艺兼容的基于硅微加工技术的简易的硅微透镜阵列制造技术。利用光刻胶热熔法和等离子体刻蚀法相结合的方法,实现了在硅晶圆上制作不同尺寸的硅微透镜阵列的工艺过程。实验中,对透镜制作过程中的热熔工艺、刻蚀工艺进行了深入的研究。最终确定了最优的工艺参数,制备了孔径20μm~90μm、表面质量高的硅微透镜阵列。

    Abstract:

    A simple silicon microlens array manufacturing technology based on silicon micromachining technology compatible with MEMS process is developed in this paper. The photoresist hot melt method and plasma etching method were used to fabricate silicon microlens arrays of different sizes on silicon wafers. In the experiment, the hot melt technology and etching technology in the process of lens fabrication were studied deeply. Finally, the optimum technological parameters were determined, and the silicon microlens array with diameter of 20μm ~ 100μm and high surface quality was prepared.

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  • 收稿日期:2023-02-17
  • 最后修改日期:2023-02-17
  • 录用日期:2023-03-02
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