两步腐蚀法制备多晶硅绒面
DOI:
CSTR:
作者:
作者单位:

闽江学院物理学与电子信息工程系;厦门大学物理系;厦门大学能源学院;

作者简介:

通讯作者:

中图分类号:

TM914.41

基金项目:

国家自然科学基金项目(61076056); 福建省重大专题项目(2007ZH0005-2); 闽江学院B类科研项目(YKY09003B)


Double Treatments of Multi-crystalline Silicon Texturing
Author:
Affiliation:

ZHANG Meiyu1,CHEN Chao2,3(1.Department of Physics and Electronic Information Egineering,Minjiang University,Fuzhou 350108,CHN,2.Department of Physics,3.Academy of Energy Source,Xiamen University,Xiamen 361005,CHN)

Fund Project:

  • 摘要
  • |
  • 图/表
  • |
  • 访问统计
  • |
  • 参考文献
  • |
  • 相似文献
  • |
  • 引证文献
  • |
  • 资源附件
  • |
  • 文章评论
    摘要:

    采用两步化学腐蚀法在多晶硅材料的表面制备了绒面结构,其中两步腐蚀法包括酸-碱两步腐蚀法和酸-酸两步腐蚀法。通过表面形貌SEM和反射谱的测试,详细地研究了不同腐蚀条件和腐蚀溶液制备绒面的形貌和光学特征。实验发现,当腐蚀速率较快时,多晶硅的绒面形貌会出现大量的晶界和针孔效应,并分析了其形成原因。同时,采用酸-碱两步腐蚀法的效果优于酸-酸两步腐蚀法的效果。最后,用PECVD在绒面上沉积SiNx减反射膜,使表面的反射率在600~800nm范围内降到3%左右,达到了良好的减反射效果,得出了最优的绒面制备方案。

    Abstract:

    Multi-crystalline silicon wafers were textured by double chemical treatments,which include acid-alkali and double acid treatments.By using SEM and reflectance spectrum,detailed study of surface morphology and optical properties of different etched surfaces was carried out.The results show that a large number of grain boundary delineation and pinholes will produce when the etching rate is too fast,and the reason is also discussed.And the results of acid-alkali treatment are better than that of double acid tr...

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

张妹玉,陈朝.两步腐蚀法制备多晶硅绒面[J].半导体光电,2011,32(2). ZHANG Meiyu, CHEN Chao. Double Treatments of Multi-crystalline Silicon Texturing[J].,2011,32(2).

复制
分享
相关视频

文章指标
  • 点击次数:
  • 下载次数:
  • HTML阅读次数:
  • 引用次数:
历史
  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:
  • 录用日期:
  • 在线发布日期: 2012-02-09
  • 出版日期:
文章二维码

漂浮通知

①关于用户登录弱密码必须强制调整的说明
②《半导体光电》微信公众号“半导体光电期刊”已开通,欢迎关注